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中国科学院理化技术研究所专利：空气中燃烧合成Si3N4粉体及Si3N4/SiC复合粉体的方法
用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
2007/7/28
期刊信息
篇名
用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
语种
中文
撰写或编译
作者
吴大兴，杨川，高国庆等
第一作者单位
刊物名称
金属学报
页面
1997年3月，Vol.33，No.3
出版日期
1997年
月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
直流等离子体法沉积氮化硅薄膜形成机理及性能研究