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搜索结果: 1-2 共查到绝缘技术 膜相关记录2条 . 查询时间(0.358 秒)
2024年1月19日,中国科学院大连化学物理研究所研究员史全团队通过简单易行的合成方法,开发出一种具有高导热、电绝缘且热驱动形状记忆特性的柔性复合相变材料膜,在可穿戴电子器件热管理领域展现出应用前景。
该发明专利为制备厚膜SOI(Silieon on insulator)材料的方法,其特征为:以利用SIMOX技术制备的薄SOI材料作为衬底,然后利用气相外延工艺进行外延生长单晶硅层。用该方法制备的SOI材料可以用作光波导材料,外延层厚度可以根据需要控制,外延层表面平整度优于用键合减薄方法制备的SOI材料。外延生长时可以选用SICl4,SiHCl3,Sill2C12或SiH4作为硅源,外延掺杂类型可...

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